Preview

Приборы и методы измерений

Расширенный поиск

МЕТОД И УСТАНОВКА КОНТРОЛЯ ПЛОСКОСТНОСТИ КРЕМНИЕВЫХ ПЛАСТИН

Аннотация

Предложен метод и разработана установка лазерного контроля стрелы прогиба и профиля изгиба полупроводниковых пластин. Метод основан на регистрации отклонения отраженного лазерного луча от положения, соответствующего отражению от идеально плоской поверхности. Установлено, что по результатам определения угла наклона касательной в любой точке поверхности, определяемой путем сканирования полупроводниковой пластины лазерным лучом, возможно определение ее профиля изгиба.

Об авторах

В. А. Пилипенко
«Интеграл», г. Минск
Беларусь


А. Н. Петлицкий
«Интеграл», г. Минск
Беларусь


В. А. Горушко
«Интеграл», г. Минск
Беларусь


С. В. Шведов
«Интеграл», г. Минск
Беларусь


В. В. Понарядов
Белорусский государственный университет
Беларусь


Список литературы

1. Пилипенко, В.А. Лазерный метод контроля профиля изгиба кремниевых пластин / В.А. Пилипенко [и др.] // Материалы 28-ой Международной конференции «Композиционные материалы в промышленности. – Ялта. – 2008. – С. 354.


Рецензия

Для цитирования:


Пилипенко В.А., Петлицкий А.Н., Горушко В.А., Шведов С.В., Понарядов В.В. МЕТОД И УСТАНОВКА КОНТРОЛЯ ПЛОСКОСТНОСТИ КРЕМНИЕВЫХ ПЛАСТИН. Приборы и методы измерений. 2011;(1):71-76.

For citation:


Pilipenko V.A., Petlitsky A.N., Gorushko V.A., Shvedov S.V., Ponaryadov V.V. METHOD AND CONTROL SET-UP OF SILICON WAFER FLATNESS. Devices and Methods of Measurements. 2011;(1):71-76. (In Russ.)

Просмотров: 1848


Creative Commons License
Контент доступен под лицензией Creative Commons Attribution 4.0 License.


ISSN 2220-9506 (Print)
ISSN 2414-0473 (Online)